Publikationen der Professur für Halbleitertechnik
In-situ QCM monitoring of ALD in porous materials
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
15th AVS conference on Atomic Layer Deposition, Portland, OR, USA
Schlagwörter
ALD, QCM, in-situ, Al2O3, TiO2, porous materials, film growth, process monitoring
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2015
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Berichtsjahr
2015
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente