Veröffentlichungen Halbleitertechnik 2008 11 bis 20 von 23 EinträgenHoßbach, C.; Menzel, S.; Thomas, J.; Teichert, S.; Hintze, B.; Wilde, L.; Schmidt, D.; Albert, M.; Bartha, J.W.: Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of High Quality Tantalum Carbonitride Thin Films. In: MAM-Conference 2008, 3.3.2008, Dresden (2008)Künzelmann, U.; Schumacher, H.; Estel, K.; Bartha, J.W.: Herstellung und Anwendung von Mikrostrukturen auf Silizium als Reflexionselemente für die ATR-FTIR-Spektroskopie. In: Bruker Optics Anwendertreffen, Ettlingen, 11.-12.11.2008 (2008)Künzelmann, U.; Schumacher, H.; Estel, K.; Vasilev, B.; Bartha, J.W.: Chemical and physical surface interactions during the oxide CMP studied through the wafer backside by FTIR spectroscopy. In: Electrochemistry: Crossing Boundaries, Gießen, 6.10.2008 (2008)Schumacher, H.; Estel, K.; Künzelmann, U.; Bartha, J.W.: A novel infrared method for measuring material removal through the silicon wafer. In: CMP-Nutzertreffen, Itzehoe, 11.04.2008 (2008)Strehle, S.; Schmidt, D.; Gutsch, S.; Knaut, M.; Albert, M.; Bartha, J.W.: In situ XPS investigation about the growth of the first atomic layer of Ta(N) films deposited by thermal TBTDET ALD. In: Tagungsbandbeitrag und Poster auf dem MRS Fall Meeting 2008, Boston, MA USA (2008)Rößler, T.; Gluch, J.; Knaut, M.; Albert, M.; Schröder, U.; Teichert, S.; Bartha, J.W.: Characterization of ALD Hf-Y-O. In: ALD conference, 2008, Brügge (2008)Richter, K.; Viehweger, K.; He, J.; Bartha, J.W.: Creation of Vias with Optimized Profile for 3-D Through Silicon Interconnects (TSV). In: Posterbeitrag, 11th Int. Conf. on PSE 2008, 15.-19.9.2008, Garmisch-Partenkirchen Proceedings PSE 2008 (2008)Albert, M.; Strobel, C.; Kuske, J.; Bartha, J.W.: High rate deposition of amorphous silicon thin film solar cells (120nm/min) with a VHF-PECVD inline deposition system. In: 23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference, 1.-5. Sept. 2008, Valencia, Spain (2008)Albert, M.; Strehle, S.; Schmidt, D.; Knaut, M.; Hossbach, C.; Rößler, T.; Bartha, J.W.; Gluch, J.; Menzel, S.; Schröder, U.; Hintze, B.: Metal and Insulator layers for DRAM applications. In: GerALD2008, Sept. 22-23, Halle (2008)Albert, M.; Bartha, J.W.: Atomlagenabscheidung als Werkzeug für die Nanotechnologie. In: Vakuum in der Forschung und Praxis 20(2008)1 (2008), S. 7–10Zurück 1 2 3 WeiterDiese Informationen werden vom Vorgängersystem FIS bereitgestellt.