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Veröffentlichungen Halbleitertechnik 2008

21 bis 23 von 23 Einträgen

Schmidt, D.; Knaut, M.; Albert, M.; Hintze, B.; Bartha, J.W.: TAPEDIS - a liquid halide ALD Precursor for depositing Ta-N bases thin films. In: Agent. Proc. AVS Conf. Bruges (B) avail, online (2008)

Schmidt, D.; Hossbach, C.; Menzel, S.; Thomas, J.; Teichert, S.; Hintze, B.; Wilde, L.; Albert, M.; Bartha, J.W.: Atomic Layer Deposition of Tantalum Nitride Based Thin Films. In: Agent. Proc. MAM Conf., Dresden (D) avail, online (2008)

Schmidt, D.; Strehle, S.; Albert, M.; Hentsch, W.; Bartha, J.W.: Top Injection Reactor Tool with in situ Spectroscopic Ellipsometry for growth and characterization of ALD thin films. In: Microelectronic Engineering 85 (2008), S. 527–533

Diese Informationen werden vom Vorgängersystem FIS bereitgestellt.

Dr. Steffen Strehle

Letzte Änderung: 22.09.2016