Veröffentlichte Konferenzbeiträge
Influence of Ionic Strength and pH-Value on the Silicon Dioxide Polishing Behaviour of Slurries based on Pure Silica Suspensions
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Advanced Interconnects and Chemical Mechanical Planarization for Micro- and Nanoelectronics, MRS Spring Meeting 2010, San Francisco, CA, 5. - 7. April 2010
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2010
Band/Vol.
Materials Research Society - Symposium Proceedings, 1249
Seiten
97-102
Referiert
Ja
Berichtsjahr
2010
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