Published Conferences 2005
Atomic Layer Deposition and Subsequent In Situ Annealing of Tantalum Nitride Thin Films
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
AVS 5th International Conference on Atomic Layer Deposition, San Jose, 8.-10.08.2005
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2005
Vermerk
Neuerscheinung
Referiert
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Zugeordnete Forschungsprojekte
- Hafniumoxid basierende Isolatorschichten für Speicherzellen (SOHAR)
Berichtsjahr
2005
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