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Einsatz spezieller Koppelstrukturen für die FT-IR-spektroskopische Schichtcharakterisierung an Si-Wafern mittels abgeschwächter Totalreflexion
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
ANAKON, 17.-20.03.2009 (Kurzreferate)
Schlagwörter
Koppelstrukturen, FT-IR-spektroskopische Schichtcharakterisierung, Totalreflexion
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2009
Seiten
288
Referiert
Nein
Berichtsjahr
2009
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