Veröffentlichte Konferenzbeiträge
Influence of Ionic Strengths and pH-Values of Model-Slurries for Chemical Mechanical Silicon Dioxide Polishing with different Nanodispersed Pure Silica Suspensions
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Nanofair 2010, Dresden, 6.-7. Juli 2010
Schlagwörter
Chemical Mechanical Silicon Dioxide Polishing
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2010
Band/Vol.
Poster
Referiert
Nein
Berichtsjahr
2010
Export
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