Veröffentlichte Konferenzbeiträge
Characterization of ruthenium ALD and PVD thin films for in-situ process control by spectroscopic ellipsometry
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
6th Workshop Ellipsometry : February 21-24, 2011 Berlin, Germany. Berlin, 2011
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2011
Referiert
Ja
Open Access
Nein
ISBN
978-3-00-034934-8
Berichtsjahr
2011
Export
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