Schichtmesstechnik
Referent: | Dr.-Ing. M. Plötner |
Umfang: | 2 0 1 SWS |
Zeit: | Vorlesung: Mittwoch, 3.DS Praktikum: nach Vereinbarung |
Ort: | MIE 116 |
erste Vorlesung: | |
Hörer: | Diplom u. Master |
Diese Vorlesung wird von der Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik angeboten. Sie ist Bestandteil des Moduls ET-12 12 05 "Charakterisierung von Mikrostrukturen".
Gegenstand der Lehrveranstaltung
Die Charakterisierung eingesetzter Substrate, hergestellter Schichten und Mikrostrukturen ist eine Voraussetzung für ihre Integration in Prozessfolgen und essentiell für die resultierenden Eigenschaften der damit hergestellten Bauelemente und Systeme. Die Lehrveranstaltung stellt Verfahren zur geometrischen, mechanischen und stofflichen Charakterisierung von Substraten, Schichten und mikrostrukturierten Objekten vor. Ergänzend wird eine Einführung in die PC-gestützte Messplatzsteuerung gegeben.
Inhalt
- Übersicht
- Messung geometrischer Größen
- Topographie
- Stufenhöhen
- Schichtdicken ausgedehnter Schichten
- Substratgeometrie
- Mikrogeometrie
- Partikel und Defekte
- Messung optischer Größen
- Grundlagen der Wechselwirkung elektromagnetischer Strahlung mit Materie (Wiederholung)
- Dünnschichtinterferenz und Spektral-Photometrie
- Ellipsometrie
- Optische Spektroskopie zur stofflichen Analyse
- Messung mechanischer Größen
- Schichthaftung
- Mechanische Schichtspannungen
- Härte
- weitere Größen (E-Moduln, Reibkoeffizienten, ..)
- Einführung in die PC-gestützte Messplatzsteuerung
- Grundkonzepte der Signalübertragung und Kommunikation von PC, Messgerät und Messumgebung/Probe
- Entwicklungsumgebung zur Messplatzsteuerung (Bsp. Keysight VEE)
Die in der Vorlesung eingesetzten Folien finden Sie im OPAL.
Praktikum
Die Vorlesung wird mit einem Praktikum ergänzt. Dieses beinhaltet die Versuche
- OF-Topografie (I)
- optische Schichtdickenmessung, OF-Topographie (II) (i. Reinraum)
- PC-gestützte Messplatzsteuerung