Physikalische Dampfphasenabscheidung PVD
Metallverdampfung mittels Elektronenstrahltechnologie
Verfahren der Physikalischen Dampfabscheidung (PVD = Physical Vapor Deposition) erlauben die Abscheidung hochwertiger tribologischer und funktioneller Schichten im Dickenbereich von wenigen Nanometern bis zu einigen zehn Mikrometern. Dazu stehen Verfahren von der Hochrate-Bedampfung bis hin zu hochaktivierten Plasmaverfahren sowie deren Kombination zur Verfügung. Einen besonderen Schwerpunkt bildet die umfassende Nutzung von Bogenentladungen als der effektivsten Quelle energiereicher Dampfstrahlen. Auf der Grundlage dieser Technologien bieten wir an:
- Musterbeschichtungen
- Schichtcharakterisierung
- Entwicklung von Schichtsystemen
- kundenspezifische Anpassung von
Beschichtungsverfahren
- Wirtschaftlichkeits- und Machbarkeitsstudien
- Entwicklung und Fertigung angepasster
Anlagenkomponenten
Kontakt:
Dr. Otmar Zimmer
Tel.: 0351 463 31993
Mehr erfahren Sie unter PVD- und Nanotechnologie