1991-1995
THERMAL RELAXATION PHENOMENA IN THE FORMATION OF DEVICE-QUALITY SIO2/SI INTERFACES
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES REVIEW PAPERS
Jahrgang/Erscheinungsjahr
1993
Band/Vol.
32
Heftnummer/Issue
12B
Seiten
6196-6199
Referiert
Nein
ISSN
0021-4922
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
1993
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