1991-1995
EFFECTS OF THIN-FILM DEPOSITION RATES, AND PROCESS-INDUCED INTERFACIAL LAYERS ON THE OPTICAL-PROPERTIES OF PLASMA-DEPOSITED SIO2/SI3N4 BRAGG REFLECTORS
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE \& TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
Jahrgang/Erscheinungsjahr
1993
Band/Vol.
11
Heftnummer/Issue
4, 1
Seiten
893-899
Referiert
Nein
ISSN
0734-2101
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
1993
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