Jan 15, 2010
Präzision im Nanometerbereich
Immer kleiner, immer schneller - schon heute beschäftigen sich die
Chiphersteller mit der Forschung für Mikroprozessoren und
Speicherzellen, die ab 2012 hergestellt werden sollen. Im Vergleich mit
heutigen Chips müssen diese leistungsfähiger, energiesparender und
kostengünstiger herzustellen sein, um die Anforderungen der Anwender
aus z. B. Computerindustrie, Unterhaltungselektronik,
Automatisierungstechnik und Medizintechnik erfüllen zu können. Die dazu
nötige rasante Miniaturisierung von Halbleiterbauelementen erfordert
die Einführung neuartiger Strukturen und Materialien. Dies führt zu
ständig komplexer werdenden Prozessfolgen und progressiv ansteigendem
Kostenaufwand für die experimentelle Absicherung neuer Konzepte.
Eine in diesem Zusammenhang kritische Prozesstechnologie ist das
Chemisch-Mechanische Polieren (CMP), bei dem Strukturunebenheiten im
Bereich von Nanometern (der millionste Teil eines Millimeters) auf den
Siliziumscheiben zwischen verschiedenen Produktionsschritten immer
wieder eingeebnet werden. Damit dies auch bei zukünftigen Schaltkreisen
aus Dresden gelingt, forschen Wissenschaftler am Institut für
Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM) der TUD in einem vom
Bundesministerium für Bildung und Forschung mit 750.000 Euro
geförderten Projekt an den fundamentalen Vorgängen bei der Politur der
Waferscheiben.
Unterstützung holt sich das IHM dabei vom Leibniz-Institut für
Polymerforschung Dresden e.V. (IPF) und vom Fraunhofer-Center
Nanoelektronische Technologien (CNT). Ziel des Forschungsvorhabens ist
es, so viel Wissen über die Vorgänge bei diesem Fertigungsschritt zu
erlangen, dass mithilfe eines Rechenmodells eine Vorhersage der
Prozessergebnisse möglich wird. Das erworbene "Know-how" kann dazu
beitragen, bisher notwendige Entwicklungszyklen einzusparen, um ein
neues Produkt schneller und billiger marktreif herstellen zu können.
Dieses Projekt ist Teil des BMBF-Verbundprojektes SIMKON
"Simulationskonzept für 32nm-CMOS-Technologien". Das BMBF unterstützt
SIMKON mit einer Fördersumme von rund 8,3 Mio. Euro im Rahmen seines
Forschungsprogramms IKT2020, das der zentralen volkswirtschaftlichen
Bedeutung der Informations- und Kommunikationstechnologien Rechnung
trägt. Durch die Förderung strategischer Allianzen im Bereich
"Bauelemente und Geräte für die Elektronikfertigung" soll die Bildung
neuer Kompetenzzentren und Netzwerke für innovative neue Produkte
gezielt unterstützt werden.
Weitere Informationen für Journalisten:
Prof. Johann W. Bartha,
Tel.: 0351 463-35292