19.11.2024; Vortrag
Gastvortrag Dr. Matthias Mühle, Fraunhofer USA
Dr. Matthias Mühle, Alumni-Regionalbotschafter, Fraunhofer USA
“From Wafer to Chip – How Diamond Electronics Research at Fraunhofer USA will shape the future of wide bandgap semiconductors.”
Abstract: In diesem Seminar wird Dr. Mühle über die spezifischen Forschungsprojekte und technologischen Fortschritte in der Diamanttechnologie sprechen, an denen sein Team bei Fraunhofer USA, Center Midwest (CMW) arbeitet. Dazu gehört auch die Forderung, dass die Herstellung von Bauelementen auf wirtschaftlich tragfähigen Wafern (> 50 mm) erfolgen kann. Forschungsprojekte in diesem Bereich sind: (a) Vergrößerung von einkristallinen Diamant-Wafern durch Homoepitaxie auf bis zu 25 mm, mit Zielrichtung auf 100 mm, sowie (b) Heterointegration von Diamant mit anderen Halbleitermaterialien mit breiter Bandlücke durch Schaffung von Diamant-Nanomembranen, die als aktive Bauelementeschichten oder thermische Elemente verwendet werden können. Darüber hinaus arbeitet sein Team auch an Fortschritten bei den Diamantbauelementen selbst durch (i) Fortschritte beim Epilayer-Wachstumsverfahren für p- und n-dotierten Diamant und (ii) die Entwicklung eines chemisch-mechanischen Polierverfahrens, mit dem eine nahezu atomare Rauheit erreicht werden kann, während während des Glättungsprozesses nur 100 nm Diamant entfernt werden.
zu seiner Person:
Matthias Mühle erhielt 2017 das Diplom in Physik von der TU Dresden und den Doktortitel in Elektrotechnik von der Michigan State University in den USA. Derzeit ist er Manager Diamond Technologies bei Fraunhofer USA, Center Midwest (CMW). Er verfügt über 14 Jahre Erfahrung in den Bereichen Diamantsynthese, Waferherstellung und Geräteanwendungen. Sein persönlicher Forschungsschwerpunkt liegt im Bereich des Diamantwachstums für die Integration von Halbleitern mit (ultra) breiter Bandlücke.