Plasma Technology (Plasmatechnik)
Lehrende: Prof. Elizabeth von Hauff, Dr. Agne Zukauskaite, Dr. Alexander M. Hinz
Diese Lehrveranstaltung (Lehrsprache Englisch) wird seit dem Wintersemester 2022/23 angeboten. Sie richtet sich an Studierende der Fachrichtungen Elektrotechnik, Nanoelectronic Systems, Maschinenbau, Physik, Chemie und an andere technisch interessierte Studierende.
OPAL-Kurs (weitere Informationen und Lehrmaterialien)
Teil des Moduls
Modulverantwortlicher: Prof. Dr. Elizabeth von Hauff
| Semester |
9. Semester, Wahlpflichtmodul ET-MEL , Profil HMT |
| V/Ü/P | 4/2/0 |
| Leistungspunkte | 7 LP |
| Lehrveranstaltungen (IFE) |
Plasma Technology (Plasmatechnik) (4/2/0) (Lehrsprache: Englisch) This course is offered in english language. |
|
Prüfungsform |
Klausur 90 min |
Inhalte
Die Modulinhalte umfassen:
1. Grundlagen der Plasmaphysik, industrielle Plasmaprozesse und das Design von Prozessanlagen
2. Grundlagen des Dünnschichtwachstums, Hartstoffschichten und Barrieren, Glasbeschichtungen und optische Beschichtungen, elektronische und funktionelle Beschichtungen und Behandlungsverfahren.
Qualifikationsziele
Die Studierenden haben ein grundlegendes Verständnis der physikalischen Eigenschaften von Plasmen, die in industriellen Prozessen und Anlagen verwendet werden. Zudem sind sie in der Lage geeignete technische Plasmaquellen und Plasmaprozessanalagen für bestimmte Anwendungen auszuwählen. Weiterhin können sie typische Beispiele für Schichten und Schichtstapel in den wichtigsten Anwendungsfeldern für Beschichtungen benennen.
Modulverantwortlicher: Prof. Dr. Elizabeth von Hauff
| Semester |
3. Semester, Wahlpflichtmodul NES-TEC, |
| V/Ü/P | 4/2/0 |
| Leistungspunkte | 7 LP |
| Lehrveranstaltungen (IFE) |
Plasma Technology (Plasmatechnik) (4/2/0) (Lehrsprache: Englisch) This course is offered in english language. |
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Prüfungsform |
Klausur 90 min |
Inhalte
Die Modulinhalte umfassen:
1. Grundlagen der Plasmaphysik, industrielle Plasmaprozesse und das Design von Prozessanlagen
2. Grundlagen des Dünnschichtwachstums, Hartstoffschichten und Barrieren, Glasbeschichtungen und optische Beschichtungen, elektronische und funktionelle Beschichtungen und Behandlungsverfahren.
Qualifikationsziele
Die Studierenden haben ein grundlegendes Verständnis der physikalischen Eigenschaften von Plasmen, die in industriellen Prozessen und Anlagen verwendet werden. Zudem sind sie in der Lage geeignete technische Plasmaquellen und Plasmaprozessanalagen für bestimmte Anwendungen auszuwählen. Weiterhin können sie typische Beispiele für Schichten und Schichtstapel in den wichtigsten Anwendungsfeldern für Beschichtungen benennen.
Termine WiSe 2023/24
|
Vorlesung |
Do, 4.+5. DS, ZEU/0255/Z |
| Übung | Fr, 5. DS, GÖR/0127/U |