Graustufen-Lithografie im sub-10 nm Bereich

Gemeinsam mit V.A. Guzenko und H. Schift vom Paul Scherrer Institut (Schweiz) hat R. Kirchner (TU Dresden) neueste Ergebnisse zur Verringerung der vertikalen Auflösung in diskreten und mehrstufigen Resiststrukturen auf unter 6 nm mittels Elektronenstrahl-Grauwertlithographie veröffentlicht. Dadurch wird klar die Fähigkeit zur Herstellung von diffraktiven optischen Elementen (DOEs) mit ultrahoher Präzision nachgewiesen. Mögliche Anwendungen für derartige Strukturen liegen in der Massenfertigung von optischen Komponenten im Gebiet der virtuellen (VR) und erweiterten Realität (AR).

Die Arbeit wurde in Advanced Optical Technologies veröffentlicht.

Journal (href: https://doi.org/10.1515/aot-2019-0016) (Open Access)