Robert Kirchner erhält EMLC2017 BEST PAPER AWARD

Robert Kirchner erhält den BEST PAPER AWARD auf der European Mask and Lithography Conference 2017 (EMLC2017) für seinen Vortrag zur VUV-Nachbearbeitung von Polymer-Mikrooptiken in der Massenfertigung unter Nutzung von Photonen mit 172 nm Wellenlänge. Die Preisverleihung fand auf dem 25. Symposium on Photomask and Next Generation Lithography Mask Technology (18.-20.04.2018, Yokohama, Japan) statt. Die Arbeit basiert auf einer Zusammenarbeit des Paul Scherrer Instituts (Schweiz) als Projektführer und der TU Dresden (Deutschland).

https://spie.org/Documents/Membership/BacusNewsletters/BACUS-Newsletter-October-2017.pdf