Veröffentlichte Journale
Investigation of the relaxation behavior of Si1-xCx alloys during epitaxal UHV-CVD growth
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Materials Science and Engineering B 154-155
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2008
Seiten
90-94
Referiert
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Berichtsjahr
2008
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