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Schmidt, D. ; Knaut, M. ; Hossbach, C. ; Albert, M. ; Hintze, B. ; Dussarrat, C. ; Bartha, J.W.
Atomic Layer Deposition of Ta-N-Based Thin Films Using a Tantalum Source
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Journal of The Electrochemical Society
Schlagwörter
ALD
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2010
Band/Vol.
157
Seiten
638-642
Referiert
Ja
Url/Urn/Doi
doi:10.1149/1.3353230
Berichtsjahr
2010
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Philipp Wenskus
Last modified: Sep 22, 2016