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Rose, M. ; Niinistö, J. ; Endler, I. ; Bartha, J.W. ; Kücher, P. ; Ritala, M.

In Situ Reaction Mechanism Studies on Ozone-Based Atomic Layer Deposition of Al2O3 and HfO2

Typ der Veröffentlichung

Zeitschriftenaufsatz

Veröffentlicht in

Applied Materials & Interfaces

Schlagwörter

atomic layer deposition, quadrupole mass spectrometry, ozone, in situ, process monitoring, active oxygen

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2010

Band/Vol.

256

Heftnummer/Issue

Seiten

347-350

Referiert

Url/Urn/Doi

10.1021/am900807a

Berichtsjahr

2010

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