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Geidel, M. ; Junige, M. ; Albert, M. ; Bartha, J.W.

In-situ analysis on the initial growth of ultra-thin ruthenium films with atomic layer deposition

Typ der Veröffentlichung

Zeitschriftenaufsatz

Veröffentlicht in

Microelectronic Engineering

Schlagwörter

In-situ XPS, In-vacuo XPS, In-situ AFM, In-vacuo AFM, Initial growth, Initial reaction mechanism, Thermal ALD of Ru, ECPR

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2012

Referiert

Open Access

Nein

Url/Urn/Doi

Berichtsjahr

2012

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