Veröffentlichte Journale

Thrun, X. ; Choj, K.-H. ; Freitag, M. ; Grenville, A. ; Gutsch, M. ; Hohle, C. ; Stowers, J. K. ; Bartha, J. W.

Evaluation of direct patternable inorganic spin-on hard mask materials using electron beam lithography

Typ der Veröffentlichung

Zeitschriftenaufsatz

Veröffentlicht in

Microelectronic engineering 98

Schlagwörter

Inorganic resist, E-beam direct write, Direct patterned spin on hard mask, High resolution, 22 nm SRAM

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2012

Band/Vol.

Seiten

226-229

Referiert

Open Access

Nein

ISSN

0167-9317

Url/Urn/Doi

Berichtsjahr

2012

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