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Schwille, C. ; Schössler, T. ; Schön, F. ; Oettel, M. ; Bartha, J.W.

Temperature dependence of the sticking coefficients of bis-diethyl aminosilane and trimethylaluminum in atomic layer deposition

Typ der Veröffentlichung

Zeitschriftenaufsatz

Veröffentlicht in

J. Vac. Sci. Technol. A 35 , 01B119

Schlagwörter

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2017

Referiert

Open Access

Nein

Url/Urn/Doi

10.1116/1.4971197

Berichtsjahr

2017

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