Published Journals

Thrun, X. ; Browning, C. ; Choi, K.-H. ; Figueiro, T. ; Hohle, C. ; Saib, M. ; Schlavone, P. ; Bartha, J.W.

Sensitivity analysis for high accuracy proximity effect correction

Typ der Veröffentlichung

Zeitschriftenaufsatz

Veröffentlicht in

Proc. SPIE 9635, Photomask Technology 2015, 963515 (October 23, 2015)

Schlagwörter

sensitivity analysis, point spread function, proximity eect correction, electron beam lithography, data preparation

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2015

Referiert

Open Access

Nein

Url/Urn/Doi

10.1117/12.2197175

Berichtsjahr

2015

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