Veröffentlichte Journale 2010
Atomic Layer Deposition of Ta-N-Based Thin Films Using a Tantalum Source
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Journal of The Electrochemical Society
Schlagwörter
ALD
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2010
Band/Vol.
157
Seiten
638-642
Referiert
Ja
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2010
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