AWEO

Atomic Layer Deposition (ALD) von Wismut und Eisen enthaltenden Oxiden-Schichten (AWEO)

Fördermittelgeber 
EFRE-Technologieförderung der Europäischen Union und des Freistaats Sachsen
Projektträger
Sächsische Aufbaubank - Förderbank (SAB)
Fördersumme
297.000€
Laufzeit
2025-2027
Projektnummer 
100765637
Kooperationspartner
TechiFab GmbH
Kontaktperson(en)
Dr. Martin Knaut, Arno Pfefferling

Die Aufgabe des Projektes liegt in der erfolgreichen Abscheidung von Bismut- und Eisenoxidschichten mittels Atomic Layer Deposition (ALD) auf Waferlevel. Die TU Dresden wird hierfür ALD-Prozesse für die Herstellung der Einzelschichten auf großen Substraten entwickeln, charakterisieren und optimieren. Bei der folgenden Kombination der Prozesse zur Herstellung von Bismuteisenoxidschichten steht dann die präzise Kontrolle des Schichtwachstums und der Schichtzusammensetzung
im Vordergrund.