ENSARÖSI

Entwicklung und Optimierung eines sauerstoffplasmaresistenten Röntgentransmissionsfensters für Silizium-Drift-Detektor-Module (ENSARÖSI)

Fördermittelgeber 
BMWE - Zentrales Innovationsprogramm Mittelstand (ZIM)
Projektträger
AiF Projekt GmbH
Fördersumme
220.000€
Laufzeit
2023-2026
Projektnummer 
KK5528301JP3
Kooperationspartner
KETEK GmbH
Kontaktperson(en)
Dr. Martin Knaut, Ole Bieg

Im Rahmen dieses Forschungsprojektes soll eine dünne Plasmaschutzschicht für KETEK Röntgenfenster entwickelt werden. Die Plasmaschutzschicht muss über eine gute Röntgentransparenz im anwendungsrelevanten Energiebereich verfügen und muss  reproduzierbar, flächendeckend und defektfrei aufgebracht werden können. Das Projekt zielt auf eine Prozessdemonstration zur Herstellung einer geeigneten Plasmaschutzschicht ab, wofür die einzelnen Teilbereiche von der Vorbereitung der hergestellten Graphenfenster-Chips, die Auswahl der optimalen Schutzschicht und des optimalen Beschichtungsprozesses über die Prozessentwicklung der Fenstermembranbeschichtung bis hin zur Anlagentechnik für einen skalierbaren Prozess betrachtet werden. Ziel ist es nach Projektende das neue Fenster in die Serienproduktion zu überführen und innerhalb weniger Monate auf den Markt zu bringen.