UHFO
EFRE FuE-Projekt UHFO „Entwicklung einer UHF-Mikrowellen - Quellenanordnung zur optimierten Erzeugung industrieller Plasmen mit steuerbarem Substratbeschuss“
Innovative Plasmatechnologien schaffen die Grundlage für leistungsfähigere Halbleiter und moderne Fertigungsprozesse. Im Rahmen des Forschungsprojekts UHFO entwickeln Forschende der Professur für Nanoelektronik der TU Dresden gemeinsam mit der FAP GmbH eine neue Generation von Mikrowellen-Plasmaquellen.
Ziel des Projekts ist es, Beschichtungsprozesse präziser und effizienter zu gestalten. Dafür entsteht eine neuartige Plasmaquelle, bei der sich der Ionenbeschuss des Substrats gezielt steuern lässt. So können die Eigenschaften dünner Schichten künftig noch genauer an unterschiedliche Anwendungen angepasst werden. Ein weiterer Schwerpunkt liegt auf der Hochrateabscheidung besonders dicker Siliziumschichten. Damit sollen neue Möglichkeiten für die Beschichtung komplexer Bauteile entstehen, wie sie beispielsweise in Halbleitermaschinen zum Einsatz kommen.
Von den Forschungsergebnissen profitieren Wissenschaft und Wirtschaft gleichermaßen. Gemeinsam mit dem Industriepartner wird die Technologie für den industriellen Einsatz weiterentwickelt und gleichzeitig die Forschung zu innovativen Beschichtungsverfahren vorangetrieben. Die gewonnenen Erkenntnisse fließen zudem in die Lehre an der TU Dresden ein und stärken die Ausbildung zukünftiger Ingenieurinnen und Ingenieure.
Das Projekt läuft von Juli 2026 bis Juni 2028 und wird aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) sowie des Freistaates Sachsen gefördert.
Argonplasma im Versuchsträger