Abschlussarbeiten - Diplom
Herstellung von auf Tantalnitrid basierenen Schichten mittels ALD (atomic layer deposition) sowie Untersuchungen zum Schichtwachstum mittels in-situ Ellipsometrie und Rasterkraftmikroskopie
Art der Abschlussarbeit
Diplomarbeit
Autoren
- Schumacher, Henrik
Betreuer
- Dipl.-Ing. Daniela Schmidt (jetzt Seiffert)
- Prof. Dr. rer. nat. Johann Wolfgang Bartha
Url/Urn/Doi
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Schlagwörter
ALD, Tantalnitrid, Schichtwachstum, in-situ Ellipsometrie und Rasterkraftmikroskopie
Berichtsjahr
2007