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Area-selective Atomic Layer Deposition of Ruthenium upon Focused Electron Beam Induced Deposition Platinum patterns versus Silicon Dioxide substrate
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Area Selective Deposition workshop "ASD 2016" : April 15th, 2016, at imec in Leuven, Belgium. Leuven, 2016
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2016
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Berichtsjahr
2016
Export
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