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Comparative study on ALD/CVD-Co(W) films as a single barrier/liner layer for 22−1x nm generation interconnects
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Interconnect Technology Conference (IITC), 2012 IEEE International, San Jose, CA, 4-6 June 2012
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Seiten
1-3
Referiert
Ja
Open Access
Ja
ISBN
978-1-4673-1138-0
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2012
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