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Effect of wet chemical substrate pretreatment on the growth behavior of Ta(N) films deposited by thermal ALD
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic Engineering
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2008
Band/Vol.
85
Seiten
2064-2067
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Zugeordnete Forschungsprojekte
- Einsatz der Atomlagenabscheidung in der Nanotechnologie von Metallschichten
Berichtsjahr
2008
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente