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Properties of Plasma-Enhanced Atomic Layer Depostion-Grown Tantalum Carbonitrade Thin Films
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
J. Electrochem. Soc. 156_11
Schlagwörter
ALD, Tantalum Carbonitride thin films
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2009
Seiten
852-859
Referiert
Ja
Berichtsjahr
2009
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente