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Remote Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Tantalum Nitride using TBTDET and Atomic Hydrogen
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Baltic ALD Conference, Oslo, Norwegen
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2007
Referiert
Nein
Berichtsjahr
2007
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente