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High-Rate Deposition of Intrinsic a-Si:H and μc-Si:H Layers for Thin‑Film Silicon Solar Cells using a Dynamic Deposition Process
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
MRS Spring Meeting, 2012
Schlagwörter
plasma-enhanced CVD (PECVD) (deposition), thin film, Si
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Band/Vol.
1426
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2012
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Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente