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Modification of Ultra Low-k Dielectric Films by O2 and CO2 Plasmas
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
ECS J. Solid State Sci. Technol. 01/2014
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2015
Band/Vol.
4
Seiten
N3048-N3057
Referiert
Ja
Open Access
Ja
Url/Urn/Doi
10.1149/2.0061501jss
Berichtsjahr
2015
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente