Publications
Semiconductor Technology
Microsystems
Archive:
2006 | 2007 | 2008 | 2009 | 2010 | 2011 | 2012 | 2013 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018
Recent publications
Evaluation of direct patternable inorganic spin-on hard mask materials using electron beam lithography
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Microelectronic engineering 98
Schlagwörter
Inorganic resist, E-beam direct write, Direct patterned spin on hard mask, High resolution, 22 nm SRAM
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2012
Band/Vol.
98
Seiten
226-229
Referiert
Ja
Open Access
Nein
ISSN
0167-9317
Url/Urn/Doi
Berichtsjahr
2012
Export
Categories
Journals | Conferences | Books | Patents | Press