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Knaut, M. ; Dirnstorfer, I. ; Albert, M. ; Bartha, J.W.

In-situ QCM monitoring of ALD in porous materials

Typ der Veröffentlichung

Konferenzbeitrag

Veröffentlicht in

15th AVS conference on Atomic Layer Deposition, Portland, OR, USA

Schlagwörter

ALD, QCM, in-situ, Al2O3, TiO2, porous materials, film growth, process monitoring

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2015

Referiert

Open Access

Nein

Berichtsjahr

2015

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