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In-vacuo study of functionalization approaches for the ALD of high-k dielectrics on graphene
Vortrag
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
AVS 15th International Conference on Atomic Layer Deposition : June 28 – July 1, 2015, Portland, Oregon, USA. Portland, 2015
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2015
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2015
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Journal | Konferenzen | Bücher | Patente