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In-situ real-time monitoring and control of kinetic processes in Atomic Layer Depositions by Spectroscopic Ellipsometry with 1.25 Hz sampling rate
Poster
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
2015 International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics (FCMN) : April 14-16, 2015 Dresden, Germany. Dresden, 2015
Schlagwörter
-
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2015
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2015
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