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Quartz crystal microbalance sensors for atomic layer deposition process and equipment control
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
16th European Advanced Process Control and Manufacturing Conference (apc|m), Reutlingen, Germany
Schlagwörter
ALD, QCM, in-situ, Al2O3, TiO2, HfO2, film growth, process monitoring, process development
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2016
Referiert
Nein
Open Access
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2016
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