Veröffentlichungen

Schwille, M. ; Schön, F. ; Knaut, M. ; Bartha, J.W.

Experimental and simulative approach for process optimization of atomic layer deposited thin films in high aspect ratio 3D structures

Typ der Veröffentlichung

Konferenzbeitrag

Veröffentlicht in

16th AVS conference on Atomic Layer Deposition, Dublin, Ireland

Schlagwörter

ALD, Al2O3, MEMS, 3D, high aspect ratio, film growth, simulation

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2016

Referiert

Nein

Open Access

Nein

Zugeordnete Forschungsschwerpunkte

Berichtsjahr

2016

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