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Growth of aluminum oxide thin films with enhanced film density by the integration of in situ flash annealing into low-temperature atomic layer deposition
Typ der Veröffentlichung
Zeitschriftenaufsatz
Veröffentlicht in
Surface & Coatings Technology
Schlagwörter
Aluminum oxide (Al2O3), Atomic layer deposition (ALD), Flash lamp annealing (FLA), Low-temperature deposition, Enhanced film density, Enhanced film growth
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2017
Band/Vol.
309
Seiten
600-608
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Url/Urn/Doi
10.1016/j.surfcoat.2016.11.048
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2017
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