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HfO2 ALD – A process development with in situ quartz crystal microbalances
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
15th AVS conference on Atomic Layer Deposition, Portland, OR, USA
Schlagwörter
ALD, QCM, in-situ, HfO2, process development
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2015
Referiert
Ja
Open Access
Nein
Berichtsjahr
2015
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Journals | Conferences | Books | Patents | Press