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Junige, M. ; Löffler, M. ; Geidel, M. ; Albert, M. ; Bartha, J.W. ; Zschech, E. ; Rellinghaus, B. ; van Dorp, W.F.

Area-selective atomic layer deposition of Ru on electron-beam-written Pt(C) patterns versus SiO2 substratum

Typ der Veröffentlichung

Zeitschriftenaufsatz

Veröffentlicht in

Nanotechnology 28 (2017), Nr. 39

Schlagwörter

Jahrgang/Erscheinungsjahr

2017

Vermerk

keiner

Seiten

395301

Referiert

Open Access

Nein

Url/Urn/Doi

Berichtsjahr

2017

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