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Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of High Quality Tantalum Carbonitride Thin Films
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Proc. AVS ALD Conf., San Diego (US)
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2007
Band/Vol.
ohne Abdruck
Referiert
Nein
Url/Urn/Doi
http://
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Berichtsjahr
2007
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente