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Recent publications
Evaluation of novel Ru-W(-N) films as Cu diffusion barriers for sub 32nm BEOL technology
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Nanofair 2010, Dresden
Schlagwörter
BEOL technology, Ru-W(-N)
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2010
Band/Vol.
Poster
Referiert
Nein
Berichtsjahr
2010
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