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Fabrication and characterization of ultra-thin nanostructured diffusion barriers on Ta- and W-basis for metallization in the <0,15µm technology
Typ der Veröffentlichung
Technischer Bericht
Veröffentlicht in
Nanotechnnology Competence Center “Ultrathin functional films” – Activities and actual projects 2005
Verlagsort
Dresden
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2005
Vermerk
Neuerscheinung
Seiten
20-21
Referiert
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Kupfermetallisierung/Diffusionsbarrieren/Isolatoren mit niedriger und hoher Dielektrizitätskonstante
Berichtsjahr
2005
Export
Kategorien
Journal | Konferenzen | Bücher | Patente