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Hafnium Oxide for Optical Applications Deposited by Different CMOS Compatible Methods
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
Proceedings “Optics and Photonics” SPIE, San Diego, 30.07.-04.08.2005
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2005
Vermerk
Neuerscheinung
Referiert
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Atomic Layer Deposition (ALD)
Zugeordnete Forschungsprojekte
- Hafniumoxid basierende Isolatorschichten für Speicherzellen (SOHAR)
Berichtsjahr
2005
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Journal | Konferenzen | Bücher | Patente