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PECVD of doped and intrinsic a-Si:H layers for solar cell structures using a novel inline deposition system
Typ der Veröffentlichung
Konferenzbeitrag
Veröffentlicht in
IEEE2005, Orlando, 01.-03.01.2005
Jahrgang/Erscheinungsjahr
2005
Vermerk
Neuerscheinung
Referiert
Nein
Zugeordnete Forschungsschwerpunkte
- * Plasmagestützte Abscheidung und Strukturierung von dünnen Schichten
Zugeordnete Forschungsprojekte
- Entwicklung eines kontinuierlichen VHF-Bandbeschichtungsverfahrens zur Herstellung von mikromorphen Si- Tandemsolarzellen
Berichtsjahr
2005
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